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Design for Manufacturability with Advanced Lithography

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Éditeur :

Springer

Paru le : 2015-10-28

This book introduces readers to the most advanced research results on Design for Manufacturability (DFM) with multiple patterning lithography (MPL) and electron beam lithography (EBL). The authors describe in detail a set of algorithms/methodologies to resolve issues in modern design for manufactura...
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Description du livre

This book introduces readers to the most advanced research results on Design for Manufacturability (DFM) with multiple patterning lithography (MPL) and electron beam lithography (EBL). The authors describe in detail a set of algorithms/methodologies to resolve issues in modern design for manufacturability problems with advanced lithography. Unlike books that discuss DFM from the product level or physical manufacturing level, this book describes DFM solutions from a circuit design level, such that most of the critical problems can be formulated and solved through combinatorial algorithms.

À propos

Auteur
David Z. Pan , Bei Yu
Éditeur
Springer
Collection
n.c
Parution
2015-10-28
Pages
164 pages
EAN papier
9783319203843

Auteur(s) du livre


Defaut-Illustration David Z. Pan
Defaut-Illustration Bei Yu

Caractéristiques détaillées - droits

EAN PDF
9783319203850
Prix
52,74 €
Nombre pages copiables
1
Nombre pages imprimables
16
Taille du fichier
5489 Ko
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EAN EPUB
9783319203850
Prix
52,74 €
Nombre pages copiables
1
Nombre pages imprimables
16
Taille du fichier
2632 Ko
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